集成电路指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。

它是微电子技术的核心，电子信息技术基础。

广泛应用于计算机，通讯设备，家用电器等电子产品。

具备集成性，整体性及工艺严格性。

是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。

通俗地说，它就是确定用以制造集成电路的电子元件在一个传导材料中的几何图形排列和连接的布局设计。

集成电路布图设计实质上是一种图形设计，但它并非是工业品外观设计，不能适用专利法保护。因为，从专利法的保护对象来看，针对产品、方法或其改进所提出的新的技术方案要求具有创造性、新颖性和实用性。这一点对集成电路布图设计而言往往难以做到。从专利的的取得程序，专利申请审批的时间过长，成本较高，不利于技术的推广和应用。

集成电路布图设计虽然在形态上是一种图形设计，但它既不是一定思想的表达形式，也不具备艺术性，因而不在作品之列，不能采用著作权法加以保护。而且集成电路布图设计更新换代较快，若用著作权法来保护布图设计，则会因著作权的保护期过长而不利于集成电路业的发展。

由于现有专利法、著作权法对集成电路布图设计无法给予有效的保护，世界许多国家就通过单行立法，确认布图设计的专有权，即给予其他知识产权保护。美国是最先对布图设计进行立法保护的国家，随后，日本、瑞典、英国、德国等国也相继制订了自己的布图设计法。

1989年5月，世界知识产权组织通过了《关于集成电路的知识产权条约》。此外，《知识产权协定》专节规定了集成电路布图设计问题，其缔约方按照上述公约的有关规定对布图设计提供保护。

我国的集成电路布图设计保护相对较晚。2001年3月28日国务院通过了《集成电路布图设计保护条例》，于2001年10月1日生效。根据《集成电路布图设计保护条例》，特制定《集成电路布图设计保护条例实施细则》，自2001年10月1日起施行。根据《中华人民共和国集成电路科设计保护条例》，制定《集成电路布图设计行政执法办法》，自2001年11月28日起实行。

布图设计专有权，是指通过申请注册后，依法获得的利用集成电路设计布图实现布图设计价值得到商业利益的权利。

（一）集成电路布图设计权的主体

按照我国《集成电路布图设计保护条例》第3条的规定，中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计权；外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计权；外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或共同参加国际条约的，依照本条例享有布图设计权。

（二）客体条件

集成电路布图设计必须具备独创性。

布图设计应当是作者依靠自己的脑力劳动完成的，设计必须是突破常规的设计或者即使设计者使用常规设计但通过不同的组合方式体现出独创性时，都可以获得法律保护。

（三）方式和程序

目前，世界各国主要采取三种取得方式：自然取得，登记取得，使用与登记取得，大多数国家采取登记取得制。我国也采取登记制度。

取得的程序：

（1）申请：向国家知识产权行政部门提交申请文件；

（2）初审；

（3）登记并公告；

（4）对驳回申请的复审；

（5）登记的撤销。

（四）集成电路布图设计申请阶段需提交的材料：

（1）集成电路布图设计登记申请表。

（2）集成电路布图设计的复制件或者图样。

（3）集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该集成电路布图设计的集成电路样品。 集成电路布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件含有该集成电路布图设计的集成电路样品。

（4）国家知识产权局规定的其他材料。

（一）集成电路布图设计专有权的内容

1、复制权

实际上是重新制作含有该布图设计的集成电路。

2、商业利用权

是指专有权人为商业目的而利用布图设计或含有布图设计的集成电路的权利。

但是布图设计权并不包括精神权利。

（二）布图设计权的行使

1、布图设计权的转让

布图设计权的转让，就是权利人将其全部权利转让给受 让人所有。根据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，转让布图设计权的，当事人应当订立书面合同，并向国务院知识产权部门登记并公告。

2、布图设计权的许可

当事人应当订立书面合同。

（一）保护期限

布图设计权的保护期限为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业使用之日计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受到保护。

（二）侵权行为

所谓布图设计的侵权，是指侵犯了布图设计人的权利，依法应当承担的法律责任。包括侵犯布图设计人的复制权和商业利用权。

（三）侵权责任及制止措施

1、侵权责任的形式

（1）民事责任

（2）行政责任

2、即发侵权的制止

（一）合理使用或利用

1、为个人目的的复制

2、供教学研究而复制

（二）反向工程

是指对他人的部图设计进行分析、研究然后根据这种分析评价的结果创作出新的部图设计。（此行为不视为侵权）

（三）权利穷竭

是指集成电路部图设计权人或经其授权的人，将受保护的布图设计或含有该布图设计的半导体集成电路产品投入市场以后，对与该布图设计或该半导体集成电路产品有关的任何商业利用行为，不再享有权利。

（四）善意买主

善意买主法律给予豁免。

（五）强制许可

一、申请：向国家知识产权行政部门提交申请文件；

二、初审；

三、登记并公告；

四、对驳回申请的复审；

五、登记的撤销。