集成电路布图设计：集成电路指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。（注：本公司专利全都是由上海汇齐专利代理事务所（普通合伙）代理申报）

集成电路布图设计申请阶段需提交的材料：

1、集成电路布图设计登记申请表

2、集成电路布图设计的复制件或者图样

3、集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该集成电路布图设计的集成电路样品。 集成电路布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件含有该集成电路布图设计的集成电路样品

4、国家知识产权局规定的其他材料。

集成电路布图设计的保护期限：１０年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起１５年后，不再受本条例保护。